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vapor pressure
4.18 psi ( 20 °C)
Quality Level
분석
98%
양식
liquid
refractive index
n20/D 1.388 (lit.)
bp
53 °C (lit.)
density
0.709 g/cm3 (lit.)
저장 온도
2-8°C
SMILES string
C[Si](C)(C)C#C
InChI
1S/C5H10Si/c1-5-6(2,3)4/h1H,2-4H3
InChI key
CWMFRHBXRUITQE-UHFFFAOYSA-N
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일반 설명
Laser-induced polymerization of gaseous ethynyltrimethylsilane was used for efficient chemical vapour deposition of polycarbosilane films. Ethynyltrimethylsilane acts as substrate for nickel-catalyzed cross-coupling with benzonitriles.
애플리케이션
Ethynyltrimethylsilane was used in:
- microwave-assisted, one-pot, three-step Sonogashira cross-coupling-desilylation-cycloaddition reaction for the preparation of 1,4-disubstituted 1,2,3-triazoles
- synthesis of poly(ethynyltrimethylsilane) containing Pd (II) coordination sites
- pyrazole synthesis via 1,3-dipolar cycloaddition of diazo compounds to acetylenes
신호어
Danger
유해 및 위험 성명서
Hazard Classifications
Eye Irrit. 2 - Flam. Liq. 2 - Skin Irrit. 2
Storage Class Code
3 - Flammable liquids
WGK
WGK 1
Flash Point (°F)
-29.2 °F
Flash Point (°C)
-34 °C
개인 보호 장비
Faceshields, Gloves, Goggles
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