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Quality Level
분석
≥99.99% (trace metals analysis)
양식
low-melting solid
반응 적합성
core: hafnium
mp
26-29 °C (lit.)
density
1.098 g/mL at 25 °C
SMILES string
CN(C)[Hf](N(C)C)(N(C)C)N(C)C
InChI
1S/4C2H6N.Hf/c4*1-3-2;/h4*1-2H3;/q4*-1;+4
InChI key
ZYLGGWPMIDHSEZ-UHFFFAOYSA-N
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일반 설명
Alkyl amides of Hafnium provide a convenient and effective atomic layer deposition precursor to smooth and and amorphous hafnium oxide thin films.
애플리케이션
Used as precursor for atomic layer deposition of Hafnium Oxide nanolaminates, which are used as a reploacement for Silicon oxide in semiconductor devices.
신호어
Danger
유해 및 위험 성명서
Hazard Classifications
Flam. Sol. 1 - Skin Corr. 1B - Water-react 2
보충제 위험성
Storage Class Code
4.3 - Hazardous materials which set free flammable gases upon contact with water
WGK
WGK 3
Flash Point (°F)
109.4 °F - closed cup
Flash Point (°C)
43 °C - closed cup
개인 보호 장비
Eyeshields, Faceshields, Gloves, type P3 (EN 143) respirator cartridges
이미 열람한 고객
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